8/21/2013, BinOptics日前表示成功在硅光子應(yīng)用中利用了他們專利的EFT技術(shù)（Etched Facet Technology刻蝕面技術(shù)）。
EFT技術(shù)為BinOptics公司CEO Alex Behfar在康奈爾讀博士期間發(fā)明。利用這種技術(shù)開發(fā)InP激光器以及其他光子器件相比傳統(tǒng)的切割工藝可以有更好的性能，更高的可重復(fù)性，可靠性以及品質(zhì)，同時(shí)保持可負(fù)擔(dān)得起的成本。自從2000年Behfar合辦BinOptics公司以來(lái)，基于這種工藝，BinOptics已經(jīng)發(fā)售了4000萬(wàn)只激光器。
BinOptics表示EFT技術(shù)可以用于硅光子應(yīng)用中外部激光器的集成。目前的硅光子應(yīng)用面臨可重復(fù)性，靈活性，集成度以及性能方面的挑戰(zhàn)。BinOptics開發(fā)的InP激光器和其他光子器件有助于克服這些問(wèn)題。EFT技術(shù)支持垂直面輻射和用于無(wú)源耦合的精確的端面成型，而且成品率很高。相比通常使用的主動(dòng)耦合工藝，無(wú)源耦合對(duì)于設(shè)備要求更簡(jiǎn)單，對(duì)于硅光子器件的大規(guī)模生產(chǎn)非常重要。
BinOptics表示最近客戶對(duì)于在硅光子應(yīng)用中利用基于EFT工藝的激光器非常積極。