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EXFO技術(shù)攻略|測(cè)試PIC和無(wú)源器件的典型配置

光纖在線編輯部  2023-04-10 09:43:53  文章來(lái)源:本站消息  版權(quán)所有,未經(jīng)許可嚴(yán)禁轉(zhuǎn)載.

導(dǎo)讀:更高效的產(chǎn)品組合,更全面的測(cè)試解決方案。

4/10/2023,光纖在線訊,#01了解無(wú)源器件測(cè)試的三個(gè)關(guān)鍵參數(shù):IL、RL、PDL。插損(IL)是在鑒定無(wú)源器件時(shí)需要測(cè)量的基本參數(shù)。大多數(shù)器件特性都通過(guò)測(cè)量插損獲得,這些特性包括損耗、中心波長(zhǎng)、紋波、帶寬、相鄰和非相鄰?fù)ǖ栏綦x度。

回?fù)p(RL)可鑒定從被測(cè)設(shè)備(DUT)反射到某個(gè)給定端口(輸入或輸出端口)的光量。

🔍下圖為IL/RL測(cè)量配置




偏振相關(guān)損耗(PDL)用于鑒定在偏振態(tài)發(fā)生變化時(shí),插損的最大變化量。

🔍下表給出了兩種不同的測(cè)量方法




#02使用高采樣分辨率快速、掃頻測(cè)量


使用連續(xù)可調(diào)諧激光器和快速光檢測(cè)器/功率計(jì)在波長(zhǎng)掃描期間同步采集波長(zhǎng)和功率數(shù)據(jù),可在幾秒內(nèi)以皮米級(jí)波長(zhǎng)分辨率完成光譜鑒定。這是在需要測(cè)試的 DUT 數(shù)量較多時(shí)的理想選擇。



用例1:微環(huán)諧振腔

基于PIC技術(shù),具有超大Q因子的干涉結(jié)構(gòu)。因?yàn)楣庾V對(duì)比度高,所以光譜鑒定非常具有挑戰(zhàn)性,需要采用亞皮米級(jí)分辨率。



用例2:陣列波導(dǎo)光柵(AWG)

有多個(gè)輸出端口的集成光子器件、基于波分復(fù)用光柵的光譜濾波器。同時(shí)測(cè)量每個(gè)通道,并分析中心波長(zhǎng)和隔離PDL。



用例3:高PER設(shè)備

使用帶反饋功能的快速偏振控制器對(duì)高偏振設(shè)備進(jìn)行光譜鑒定——鎖定最大或最小插損。



🔍 需要進(jìn)行光譜測(cè)試的其它器件
復(fù)用器/解復(fù)用器、梳狀濾波器、波長(zhǎng)選擇開(kāi)關(guān)(WSS)、薄膜濾波器(TFF)、增益平坦濾波器

#03使用EXFO光測(cè)試解決方案




• 測(cè)量時(shí)間:3 s(100 nm時(shí)典型值)
• IL、RL、PDL(穆勒矩陣法)和光電流測(cè)量
• 光采樣分辨率 < 1 pm,動(dòng)態(tài)范圍 > 70 dB
• 多通道測(cè)量功能





#04.使用EXFO自動(dòng)的PIC測(cè)試系統(tǒng)


適用于測(cè)試集成光子器件的自動(dòng)測(cè)試系統(tǒng)——

• 晶圓級(jí)、單芯片和多芯片對(duì)準(zhǔn)
• 測(cè)試站自動(dòng)化與分析
• 集成的IL、RL和PDL測(cè)量
• 高模塊化、高性能
• 光/電/RF檢測(cè),最多4個(gè)檢測(cè)頭


PILOT軟件——在單個(gè)芯片上邊緣耦合



EXFO的OPAL自動(dòng)測(cè)試站——溝槽邊緣耦合
關(guān)鍵字: EXFO 測(cè)試 解決方案
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