5/19/2025，光纖在線訊，由光纖在線與和弦產(chǎn)業(yè)研究中心聯(lián)合主辦的CFCF2025光連接大會將于2025年6月16日至18日在蘇州灣艾美大酒店盛大舉行。這場備受矚目的大會將匯聚光通信領域專家、學者以及企業(yè)代表，共同探討下一代算力需求下的光通信技術發(fā)展趨勢，推動行業(yè)技術升級和市場增長。

      源自東京大學的初創(chuàng)企業(yè)Gaianixx Inc.（以下簡稱Gaianixx）將攜其創(chuàng)新產(chǎn)品——多功能性中間膜晶圓及面向下一代光器件的各種光學單晶膜硅晶圓亮相#D21展位，期待與各界人士交流分享。

參展信息：
展商名稱：Gaianixx Inc.
展會名稱：CFCF2025 第十屆光連接大會
展會時間：2025年6月16-18日 
展會地點：蘇州·蘇州灣艾美大酒店
展位號：#D21

      Gaianixx此次展示的重點產(chǎn)品為多功能性中間膜晶圓、硅基PLZT（添加鑭的鋯鈦酸鉛）單晶薄膜和硅基MgO（氧化鎂）單晶薄膜。據(jù)透露，Gaianixx通過自主研發(fā)的多功能性中間膜技術，使得在Si襯底上無缺陷牽引生長高品質單晶成為可能。目前已成功在6英寸Si襯底上實現(xiàn)PLZT（鋯鈦酸鉛鑭）薄膜、氧化鎂（MgO）薄膜的單晶化制備。

      據(jù)介紹，這項多功能性中間膜技術的核心在于通過特殊工藝實現(xiàn)「馬氏體相變」——該技術可使材料晶格在特定條件下僅改變間距關系而保持相對位置不變。借助異質外延過程中產(chǎn)生的晶格失配作為驅動力，成功通過雙晶型馬氏體相變誘導出「動態(tài)晶格匹配」效應，顯著提升了功能性薄膜與Si襯底之間的晶格一致性。

      在功能性方面，PLZT單晶薄膜具有較高的電光系數(shù)，能夠在低電壓下實現(xiàn)較大的折射率變化，因此有望實現(xiàn)光通信所需光子器件的小型化，現(xiàn)已被業(yè)界視為下一代強介電材料。而MgO單晶作為各類薄膜沉積的理想基底材料，已廣泛應用于尖端技術領域。憑借其低折射率特性該材料在光子器件包層結構中的創(chuàng)新應用備受期待。

部分參展產(chǎn)品圖示：

      
      
關于 Gaianixx Inc.
      Gaianixx是一家源于東京大學的深科技初創(chuàng)企業(yè)，成立于2021年11月，致力于開發(fā)、制造和銷售可實現(xiàn)外延生長高質量化的獨創(chuàng)技術"多功能性中間膜"。利用多功能性中間膜的效果，公司已成功實現(xiàn)用于MEMS等的壓電薄膜單晶化，并在光子學領域開始提供硅基板上生長的光學晶體薄膜樣品。