6/12/2020，光纖在線訊     2020年5月30日，聯(lián)合微電子中心（CUMEC）在重慶向全球發(fā)布“180nm成套硅光工藝PDK”，標志著聯(lián)合微電子中心具備硅基光電子領(lǐng)域全流程自主工藝制造能力，正式向全球提供硅光芯片流片服務。


進入網(wǎng)站了解詳情：https://service.cumec.cn/schedule
 
1、硅光MPW流片日程安排（MPW Schedule）

CUMEC硅光第一批有源流片預定6月30日注冊截至，還有部分空位，預訂從速！




2、工藝技術(shù)(Technology)



CUMEC硅光工藝平臺基于8英寸(200mm) CMOS工藝，憑借先進的248nm DUV光刻技術(shù)，實現(xiàn)180nm工藝節(jié)點，目前CUMEC硅光工藝平臺提供的工藝技術(shù)包括：




3、基礎(chǔ)器件(Baseline Block)




4、流程

|| 簽署NDA：登錄網(wǎng)站https://service.cumec.cn/下載CUMEC CSiP180Al NDA文件，并完成信息填寫和簽署。
|| 獲取PDK：請將掃描件發(fā)送至service@cumec.cn
工作人員將在3個工作日內(nèi)完成NDA文件的審核和反饋，并發(fā)送PDK到注冊郵箱。
|| 注冊流片
發(fā)郵件至service@cumec.cn注冊流片，我方工作人員會與您確認流片信息。



CUMEC簡介：
聯(lián)合微電子中心有限責任公司（簡稱CUMEC公司）是重慶市政府重磅打造的國家級國際化新型研發(fā)機構(gòu)，于2018年10月在重慶注冊成立，首期投資超100億元。CUMEC公司針對國家微電子行業(yè)高端發(fā)展的需求，著力打造集技術(shù)、產(chǎn)品和工藝為一體的光電融合高端特色工藝，以硅基光電子、異質(zhì)異構(gòu)三維集成、鍺硅射頻等工藝技術(shù)和產(chǎn)品技術(shù)為核心，聚焦“后摩爾時代”世界集成電路發(fā)展主流趨勢，探索“超越摩爾”的行業(yè)發(fā)展模式，匯聚海內(nèi)外一流集成電路人才，打造國際一流的集成電路研發(fā)中心。