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臺積電宣布45億美元新投資,聚焦7nm擴產(chǎn),特殊工藝和先進封裝

光纖在線編輯部  2018-08-15 09:19:05  文章來源:綜合整理  版權(quán)所有,未經(jīng)許可嚴禁轉(zhuǎn)載.

導讀:

8/15/2018,臺積電昨日舉行董事會,核準資本預算45億美元,據(jù)透露,這項投資將主要用于興建廠房;建置、擴充及升級先進制程產(chǎn)能;轉(zhuǎn)換邏輯制程產(chǎn)能為特殊制程產(chǎn)能;轉(zhuǎn)換成熟制程產(chǎn)能為特殊制程產(chǎn)能;擴充及升級特殊制程產(chǎn)能;擴充先進封裝制程產(chǎn)能和2018年第四季研發(fā)資本預算與經(jīng)常性資本預算。

首先在先進制程方面,據(jù)半導體行業(yè)觀察了解,臺積電將會投在南科18廠新廠擴建、還有7nm先進制程擴充和升級。

臺積電是業(yè)界7nm進展最快的廠商,在六月舉辦的技術(shù)研討會上,臺積電CEO魏哲家表示,該公司的7nm制程芯片已經(jīng)開始量產(chǎn)。按照魏哲家的說法7nm的量產(chǎn)將使臺積電12寸晶圓的總產(chǎn)能達到120萬片,比2017年的105萬片提升9%。他表示,到2018年底將有超過50個產(chǎn)品完成設計定案(Tape out)。其中,AI芯片、GPU和礦機芯片占了大部分的產(chǎn)能,其次是5G和應用處理器(AP)。

這次加碼,相信是臺積電看到了這個市場更多的空間,或者說是看到了來自三星追趕的壓力?

而在邏輯制程轉(zhuǎn)換為特殊制程方面,這可能是臺積電看到了目前全球邏輯制程競爭態(tài)勢,尋找另一個更新的成長空間?

去年的報道指出,臺積電內(nèi)部秘組一支物聯(lián)網(wǎng)超級艦隊,從既有的特殊制程技術(shù)、研發(fā)、策略發(fā)展業(yè)務等部門嚴選菁英,由共同執(zhí)行長魏哲家親自領軍。更針對物聯(lián)網(wǎng)提出Ultra-LowPowerPlatform(ULP)平臺的概念,密集與大客戶高通(Qualcomm)等商討標準規(guī)范,鎖定物聯(lián)網(wǎng)為臺灣半導體產(chǎn)業(yè)帶來的新臺幣一兆元商機。

據(jù)透露,臺積電針對物聯(lián)網(wǎng)推廣了從0.35/0.25/0.18微米到90/65/50/40納米的RF制程、嵌入式快閃存儲器ddedFlash制程等,加速把各階段的制程技術(shù)要補齊。尋找廣闊的成長空間。

至于先進封裝方面,臺積電之前憑借Fanout工藝,在蘋果A系列芯片上吃了甜頭,他們在上面也布局不少。

其實臺積電的第一個先進產(chǎn)品,叫做「CoWoS」(Chip on Wafer on Substrate)。意思是將邏輯芯片和DRAM放在硅中介層(interposer)上面,然后封裝在基板上。

據(jù)EEtimes介紹,臺積電從明年初開始,CoWoS技術(shù)將提供具備倍縮光罩(reticle)兩倍尺寸的硅中介層選項,以因應該領域的需求;而具備130微米凸塊間距的版本則將在今年通過品質(zhì)認證。InFO技術(shù)則會有四種衍生技術(shù),其中記憶體基板應用的InFO-MS,將在1x倍縮光罩的基板上封裝SoC與HBM,具備2x2微米的重分布層(redistribution layer),將在9月通過驗證。

InFO-oS則擁有與DRAM更匹配的背向RDL間距,而且已經(jīng)準備就緒;一種名為MUST的多堆疊選項,將1~2顆芯片放在另一顆比較大的芯片頂部,然后以位于堆疊底部的硅中介層來連結(jié)。最后還有一種InFO-AIP就是封裝天線(antenna-in-package)技術(shù),號稱外觀尺寸可縮小10%,天線增益則提高40%,鎖定5G基頻芯片的前端模組應用等設計。

不只如此,臺積電還發(fā)表兩種全新的封裝技術(shù)選項。其中在4月底問世的WoW (wafer-on-wafer)封裝直接以打線堆疊三顆裸晶,不過使用者還需要確定其EDA流程是否支援這種打線(bonding)技術(shù);該技術(shù)還將在6月推出支援EMI的版本。

最后臺積電還大略描述了一種被稱為「整合芯片系統(tǒng)」(system-on-integrated-chips,SoICs)的技術(shù),采用10奈米以下的互連來連結(jié)兩顆裸晶,但技術(shù)細節(jié)還要到明年才會透露;該技術(shù)鎖定的應用從行動通訊到高性能運算,而且能連結(jié)采用不同制程節(jié)點生產(chǎn)的裸晶,看來是某種形式的系統(tǒng)級封裝(SiP)。

臺積電同時也宣布,將聘美國史丹佛大學電機工程系教授黃漢森擔任副總經(jīng)理,擔任技術(shù)研究組織主管。

黃漢森擁有美國理海大學(Lehigh University)電機工程博士學位,在加入臺積前,在斯坦福大學擔任電機工程系終身職教授多年。另外,他在IBM半導體部門也有16年的工作經(jīng)驗。

業(yè)界人士指出,黃漢森擅長新型態(tài)的記憶體技術(shù)研發(fā),由于現(xiàn)階段嵌入式快閃記憶體eFlash制程技術(shù)面臨瓶頸,黃漢森應可帶領臺積電朝向新一代的嵌入式非揮發(fā)性記憶體技術(shù)前進,包括嵌入式磁阻式隨機存取記憶體eMRAM技術(shù),或是嵌入式電阻式記憶體eRRAM技術(shù)等。
關鍵字: 臺積電 7nm 芯片
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